联想总部(北京)园区项目二期投标方案基坑支护优化设计分析

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内容摘抄:

1 工程实例
1. 1 工程概况
联想总部(北京) 园区项目二期场地位于北京市海淀区中关村软件园二期。 拟建项目为地上 3 ~6 层,地下整体 1 ~ 2 层、局部 3 层的框架剪力墙结构,局部为纯地下室。 板底标高 - 12. 050m(局部- 16. 050m),地表标高平均 - 0. 600m。 基坑开挖深度按 11. 45m 考虑。
1. 2 地质条件
1)场地现状地形与地貌、地物概况 地形总体基本平坦。 目前拟建场区为空地,大部分范围有堆土。
2)地质条件 基坑开挖范围内以素填土、粉质黏土、黏质粉土、砂质粉土、重粉质黏土为主,各土

(略)

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