GB/T 1551-2021 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法.pdf

四探针法,电阻率,其他规范
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ICS77.040 CCS H 21 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T1551-2021 代替GB/T1551一2009 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法 Test method for measuring resistivity of monocrystal silicon- In-line four-point probe and direct current two-point probe method 2021-05-21发布 2021-12-01实施 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 发布 GB/T1551—2021 前 言 本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草. 本文件代替GB/T1551一2009《硅单晶电阻率测定方法》,与GB/T1551一2009相比,除结构调整 和编辑性改动外,主要技术变化如下: a)更改了直排四探针法的适用范围(见第1章,2009年版的第1章); b)“范围”中增加了“硅单晶其他范围电阻率的测试可参照本文件进行”(见第1章); c)增加了规范性引用文件GB/T14264(见第2章); d)增加了“术语和定义”(见第3章); €)更改了测试环境温度的要求(见第4章,2009年版的第2章、第13章); )更改了“干扰因素”中光照对测试结果的影响(见5.1 2009年版的3.1、14.1); g)增加了少数载流子注入对测试结果具体影响的干扰因素(见5.3); h)更改了“干扰因素”中温度对测试结果的影响(见5.4 2009年版的3.4、14.4); i)增加了探针振动、探针头类型对测试结果影响的干扰因素(见5.5、5.6); j)增加了直排四探针法测试时样品发热、探针与样品接触的位置对测试结果影响的干扰因素[见 5.7a)、5.7c)]; k)增加了直流两探针法测试时样品电阻率不均匀、存在轻微裂痕或其他机械损伤、导电类型不唯 一对测试结果影响的干扰因素(见5.8); 1)删除了直流两探针法测试干扰因素中探针间距的内容(见2009年版的14.6); m)更改了直排四探针法的测试原理(见6.1 2009年版的第4章); )增加了直排四探针法中“试剂和材料”(见6.2); o)更改了直排四探针法中对针尖形状和初始标称半径的要求[见6.3.1a) 2009年版的5.1.1]; P)更改了直排四探针法中标准电阻的要求[见6.3.2c)、2009年版的5.2.4]; 9)更改了直排四探针法中散热器的要求(见6.3.4 2009年版的5.4); )更改了直排四探针法中制样装置的要求(见6.3.5 2009年版的5.5); s)更改了直排四探针法中厚度测试仪的要求(见6.3.6 2009年版的5.6); t)删除了直排四探针法中超声波清洗器、化学实验...

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