SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法.pdf

其他规范
文档页数:10
文档大小:3.71MB
文档格式:pdf
文档分类:其他规范
上传会员:
上传日期:
最后更新:

ICS29.045 H82 备案号:50550-2015 SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T11493—2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法 Test method for measuring nitrogen concentration in silicon substrates by secondary ion mass spectrometry 2015-04-30发布 2015-10-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布 NU SJ/T11493—2015 前 言 本标准按照GB/T1.1一2009制定的规则起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任. 本标准由全国半导体设备与材料标准化技术委员会(SAC/TC203)归口. 本标准起草单位:信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、 苏州晶瑞化学有限公司、天津中环领先材料技术有限公可. 本标准主要起草人:马农 口 李翔、付雪涛. INDUSTRI SJ STANDARDS ...

资源链接请先登录(扫码可直接登录、免注册)
十年老网站,真实资源!
高速直链,非网盘分享!浏览器直接下载、拒绝套路!
本站已在工信部及公安备案,真实可信!
手机扫码一键登录、无需填写资料及验证,支持QQ/微信/微博(建议QQ,支持手机快捷登录)
①升级会员方法:一键登录后->用户中心(右上角)->升级会员菜单
②注册登录、单独下载/升级会员、下载失败处理等任何问题,请加客服微信
不会操作?点此查看“会员注册登录方法”

投稿会员:匿名用户
我的头像

您必须才能评论!

手机扫码、免注册、直接登录

 注意:QQ登录支持手机端浏览器一键登录及扫码登录
微信仅支持手机扫码一键登录

账号密码登录(仅适用于原老用户)