GB/T 19199-2015 半绝缘砷化镓单晶中碳浓度的红外吸收测试方法.pdf

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ICS 77.040 H 17 中华人民共和国国家标准 GB/T19199-2015 代替GB/T19199-2003 半绝缘砷化家单晶中碳浓度的 红外吸收测试方法 Test methods for carbon acceptor concentration in semi-insulating gallium arsenide single crystals by infrared absorption spectroscopy 2015-12-10发布 2016-07-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会
GB/T 19199-2015 前言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。

本标准代替GB/T19199-2003《半绝缘砷化单晶中碳浓度的红外吸收测试方法》。

本标准与GB/T19199一2003相比,主要有以下变化: 一扩展了半绝缘砷化单晶电阻率范围,将电阻率大于10Ωcm修改为大于10°Ωcm; 将范围由“非掺杂半绝缘砷化单晶"修改为"非掺杂和碳掺杂半绝缘砷化单晶”; 一去除了0.4mm~2mm厚度测试样品的解理制样方法; 一室温差示法测量时,将"仪器分辨率为0.5cm或1cm-1”,修改为"仪器分辨率1cm-1”。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准 化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。

本标准起草单位:信息产业专用材料质量监督检验中心、天津市环欧半导体材料技术有限公司、中 国电子材料行业协会。

本标准起草人:何秀坤、李静、张雪图。

本标准所代替标准的历次版本发布情况为: GB/T 19199-2003。

GB/T 19199-2015 半绝缘砷化家单晶中碳浓度的 红外吸收测试方法 1范围 本标准规定了半绝缘砷化单品中碳浓度的红外吸收测试方法。

本标准适用于电阻率大于10"Ωcm的非掺杂和碳掺杂半绝缘砷化单晶中碳浓度的测定。

测量 范围:室温下从1.0×10atoms/cm²到代位碳原子的最大溶解度,77K时检测下限为 4.0× 10 atoms/cm²。

2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。

凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文 件。

凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括的修改单)适用于本文件。

GB/T14264半导体材料术语 3术语和定义 GB/T14264界定的术语和定义适用于本文件。

4方法提要 碳为半绝缘砷化中主要浅受主杂质,其局域模振动谱带(室温谱带峰位为580cm-.77K谱带峰 位为582cm)吸收系数与代位碳浓度具有对应关系,由测得的吸收系数根据经验公式即可计算出碳 浓度。

5干扰因素 5.1杂散光到达检测器,将导致碳浓度测试结果出现偏差。

5.2测试样品的测试面积应大于光阑孔径,否则可能导致错误的测试结果。

5.3室温测试时,砷化中碳带半高宽可接受的数值应小于2cm一。

在光谱计算时,较大的半高宽将 导致测试误差,半高宽的确定方法见9.2.7。

6仪器设备 6.1傅里叶变换红外光谱仪,仪器的最低分辨率应优于0.5cm。

6.277K低温样品测试装置。

6.3千分尺:精度为10μm。

GB/T 19199-2015 7测试环境 除另有规定外,应在下列环境中进行测试: a)环境温度为24℃士2°℃; b)相对湿度小于70%; c)测试室应无机械冲击、振动和电磁干扰。

8测试样品 测试样品厚度为0.2000cm~0.6000cm,双面研磨、抛光,使其两表面呈光学镜面。

参比样品从水 平法生长的非掺杂砷化单晶中选取,要求碳浓度小于3.0×10"atoms/cm”。

9测试步骤 9.1方法选择 当测试样品碳浓度大于或等于1.0×10atoms/cm²时,可采用室温差示法测试,当测试样品碳浓 度小于1.0×10atoms/cm时,采用77K低温空气参比法测试。

9.2室温差示法 9.2.1用千分尺测量参比样品/测试样品厚度,测量3个~5个点,取平均值,结果保留4位有效数字。

9.2.2设置仪器参数,使光谱仪分辨率为1cm。

9.2.3由于信噪比与测试时间成正比,为提高信噪比可以通过增加扫描次数。

建议扫描次数为 300次。

9.2.4放人光阑孔径为13mm的样品架,将参比样品/测试样品放入样品架。

9.2.5在9.2.1~9.2.4的条件下,分别测得参比样品、测试样品在波长574cm1~590cm范围的吸 收光谱。

9.2.6按式(1)和式(2)分别计算差减因子和差示光谱: FCR=Ts/T 式中: FCR-...

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