ICS77.040 H17 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T34504-2017 蓝宝石抛光衬底片表面 残留金属元素测量方法 Measurement method for surface metal contamination on sapphire polished substrate wafer 2017-10-14发布 2018-05-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T34504-2017 前 言 本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草. 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准 化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口. 本标准起草单位:天通控股股份有限公司. 本标准主要起草人:康森、宋岩岩、邵峰、沈翟欢、於展杰. I GB/T34504-2017 蓝宝石抛光衬底片表面 残留金属元素测量方法 1范围 本标准规定了蓝宝石抛光衬底片表面深度为5nm以内的残留金属元素的全反射X光荧光光谱测 试方法. 本标准适用于蓝宝石抛光衬底片表面残留的、在元素周期表中11(Na)~92(U)号(除去铝和氧), 且面密度在10°atoms/cm2~101 s atoms/cm2范围内元素的定量测量.其他用途蓝宝石抛光片表面残 留金属元素的测量可参照本标准执行. 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文 件.凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括的修改单)适用于本文件. GB/T8979一2008纯氮、高纯氮和超纯氮 GB/T14264半导体材料术语 GB50073一2013洁净厂房设计规范 3术语、定义和缩略语 GB/T14264界定的以及下列术语、定义和缩略语适用于本文件. 3.1术语和定义 3.1.1 掠射角glancing angle 全反射X光荧光光谱(TXRF)测试方法中X射线的入射角度. 3.1.2 角扫描angle scan 作为掠射角函数,对发射的荧光信号的测量. 3.1.3 临界角critical angle 能产生全反射的最大角度,当掠射角小于这一角度时,被测表面发生对入射射线的全反射. 3.2缩略语 TXRF全反射X光荧光光谱(total reflection X-ray fluorescence) 4方法原理 4.1TXRF的激发是以入射角小于0.1°的原级X射线掠射激发样品台上的样品.入射的X射线通过 样品表面发生全反射,由此激发出来的X射线荧光通过Si(Li)探测器进行探测,再通过光谱仪进行定 量分析.射线的损耗波穿过样品表层呈指数递减,衰减强度与样品的表面粗糙度、总电子密度有关. 1 ...