ICS71.100.20 G86 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T31058—2014 电子工业用气体四氟化硅 Gases for electronic industry-Silicon tetrafluoride 2014-12-22发布 2015-07-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 发布 GB/T310582014 电子工业用气体四氟化硅 1范围 本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容. 本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅.它主要用作 电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注人工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯 石英玻璃的原料，也是生产多晶硅的重要原料. 分子式：SiF4. 相对分子质量：104.0786128（按2009年国际原子相对质量）. 2规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的.凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文 件.凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于本文件. GB190危险货物包装标志 GB/T3723工业用化学产品采样安全通则 GB5099钢质无缝气瓶 GB7144气瓶颜色标志 GB14194永久气体充装规定 GB15258化学品安全标签编写规定 GB16804气瓶警示标签 GB/T26571特种气体储存期规范 GB/T28726一2012气体分析氮离子化气相色谱法 GB/T28727气体分析硫化物的测定火焰光度气相色谱法 气瓶安全监察规程(2000版) 危险化学品安全管理条例(2002版) 特种设备安全监察条例(2009版) 3技术要求 四氟化硅的技术要求应符合表1的要求. 表1技术指标 项目 指标 四氟化硅纯度（体积分数）/10-2 99.99 99.999 氢(H2)含量（体积分数）/10-6 < 2 (氧氩)(O2十Ar)含量（体积分数）/10-6 20 0.5 氮(N2)含量（体积分数）/10- < 60 4 1 GB/T.31058-2014 表1（续） 项目 指标 一氧化碳(CO)含量（体积分数）/10- < 5 0.1 二氧化碳(CO2)含量（体积分数）/10-6 < 15 0.3 甲烷(CH)含量（体积分数）/10-5 < 10 1 硫化氢(H2S)含量（体积分数）/10-5 < 1 0.1 二氧化硫(SO2)含量“（体积分数）/10-6 25 7 4.1.2纯度为99.999×10-2（体积分数）的四氟化硅产品应逐瓶检验.当检验结果有任何一项指标不 符合本标准技术要求时，则判该产品不合格. 4.1.3四氟化硅采样安全应符合GB/T3723中的相关规定. 4.2四氟化硅纯度 4.2.1总杂质含量按式(1)...
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