GA/T 721.1-2021 显现潜在手印试剂通用技术要求 第1部分:水合茚三酮(NIN).pdf

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ICS13.310 CCS A 92 GA 中华人民共和国公共安全行业标准 GA/T721.1—2021 代替GA721.1一2007 显现潜在手印试剂通用技术要求 第1部分:水合茚三酮(NIN) General technical requirements for reagents of developing latent fingerprints-Part 1:Ninhydrin hydrate(NIN) 2021-10-14发布 2022-05-01实施 中华人民共和国公安部 发布 GA/T721.1-2021 前言 本文件按照GB/T1.1一2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草. 本文件是GA/T721《显现潜在手印试剂通用技术要求》的第1部分.GA/T721已经发布了以下 部分: 一第1部分:水合茚三酮(NIN); —第2部分:3 3',5 5'-四甲基联苯胺(TMB); —第3部分:1 8-二氮苏-9-酮(DFO); —第4部分:7-苄胺基-4-硝基苯并呋咱(BBD); —第5部分:1 2-二酮(IDO). 本文件代替GA721.1一2007《显现潜在手印试剂第1部分:水合茚三酮》,与GA721.1一2007相 比,除结构调整和编辑性改动外,主要技术变化如下: 一一更改了范围(见第1章,2007年版的第1章); 一删除了分子式:CH4O3H20 分子量:178(见2007年版的第2章); —更改了相关章条的标题(见第3章~第7章,2007年版的第3章~第5章); 一一增加了术语“水合茚三酮”(见3.1); —增加了一般规定(见5.1); —更改了定量方法(见5.2.1 2007年版的3.2.1); —更改了测定条件(见5.2.2 2007年版的3.2.2); —增加了采样及验收规则(见第6章); 一更改了包装(见7.1 2007年版的4.1); —更改了标志(见7.2 2007年版的4.2); —增加了标签(见7.3); 一一更改了运输(见7.4 2007年版的第5章); 一更改了贮存(见7.5 2007年版的第5章). 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别专利的责任. 本文件由全国刑事技术标准化技术委员会(SAC/TC179)提出并归口. 本文件起草单位:安徽工大化工科技有限公司、公安部物证鉴定中心. 本文件主要起草人:许立信、万超、仲利静、卢亮、薛静、秦旗、曲会英、刘寰. 本文件2007年首次发布为GA721.1一2007,本次为第一次修订. I GA/T721.1-2021 引言 显现潜在手印试剂是用于现场勘查及物证检验时对指、掌纹等潜在物证进行显现和提取的专用试 剂,并能提高对现场潜在物证的提取效率.GA/T721由5个部分构成. 一第1部分:水合茚三酮(NIN).目的是规范试剂水合节三酮在显现潜在手印过程中的技术 要求. —第2部分:3 3 5 5-四甲基联苯胺(TMB).目的是规范试剂3 3,5 5'-四甲基联苯胺在显现 潜在手印过程中的技术要求. —第3部分:1 8-二氮苏-9-酮(DFO).目的是规范试剂1 8-二氮芴-9-酮(DFO)在显现潜在手印 过程中的技术要求. 一第4部分:7-苄胺基-4-硝基苯并呋咱(BBD).目的是规范试剂7-苄胺基-4-硝基苯并呋咱 (BBD)在显现潜在手印过程中的技术要求. —第5部分:1 2-茚二酮(IDO).目的是规范试剂1 2-茚二酮(IDO)在显现潜在手印过程中的技 术要求. Ⅱ ...

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