QJ 20505-2016 全方位离子注入与沉积制备类金刚石碳膜 技术条件.pdf

QJ 中华人民共和国航天行业标准 FL6200 QJ20505-2016 全方位离子注入与沉积制备类金刚石碳膜 技术条件 Technical requirements for plasma immersion ion implantation and deposition preparation of diamond-like carbon 2016一01一19发布 2016一03一01实施 国家国防科技工业局发布 QJ20505-2016 前言 本标准由中国航天科技集团公司提出. 本标准由中国航天标准化研究所归口. 本标准起草单位：国营一四九厂、中国科学院兰州化学物理研究所、中国航天标准化研究所. 本标准主要起草人：奚昊敏、宋晓航、沙春生、王立平、蒲吉斌、徐春凤、周凯. 1 QJ20505-2016 全方位离子注入与沉积制备类金刚石碳膜技术条件 1范围 本标准规定了全方位离子注入与沉积(PII&D)技术制备的类金刚石碳膜的质量要求、质量保证 规定和包装、贮存和运输及技术安全及环境保护要求. 本标准适用于Ti-6Al-4V、95Cr18、GCr15、1Cr18Ni9Ti(旧牌号)等金属材料零部件膜厚1um~4um 的类金刚石碳膜质量检验和验收. 2规范性引用文件 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款.凡是注日期的引用文件，其随后的 修改单（不包含勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究 是否可使用这些文件的最新版本.凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准. GB/T6461一2002金属基体上金属和其他无机覆盖层经腐蚀试验后的试样和试件的评级 GB/T6463一2005金属和其他无机覆盖层厚度测量方法评述 GB/T11164真空镀膜设备通用技术条件 GB/T25898仪器化纳米压入试验方法薄膜的压入硬度和弹性模量 GJB145A一1993防护包装规范 GJB150.11军用装备实验室环境试验方法第11部分：盐雾试验 GJB1027A一2005运载器、上面级和航天器试验要求 GJB3032溅射二硫化钼基自润滑固体薄膜规范 JB/T8554气相沉积薄膜与基体附着力的划痕试验法 3术语和定义 下列术语和定义适用于本标准. 3.1 全方位离子注入与沉积plasma immersion ion implantation and deposition.PIIl&D 将工件放置于等离子体中，在工件上施加一负脉冲高压，在强电场作用下，离子从各个方向同时注 入及沉积到工件的表面形成薄膜的方法. 3.2 类金刚石diamond-like carbon(DLC) 由金刚石结构的sP3杂化碳原子和石墨结构的sP2杂化碳原子相互混杂构成的亚稳态非晶结构. 3.3 试样sampling 与产品同材料、同状态、同时经过镀膜前处理、同炉制备类金刚石碳膜的试片. 4质量要求 1 ...