ICS 31.200 CCS L59 中华人民共和国国家标准 GB/T 42896-2023 微机电系统（MEMS）技术 硅基MEMIS纳尺度结构冲击试验方法 Micro-electromechanical systems(MEMS）technology Impact test methodfor nanostructures of silicon basedMEMS 2023-08-06发布 2023-12-01实施 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 发布
GB/T42896-2023 目 次 前言 1范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义 4要求 5试验方法 附录A（资料性） 原位片上冲击试验机尺寸建议 附录B（资料性） 原位片上热驱动纳尺度结构冲击试验机测试实例
GB/T42896-2023 前言 起草。
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本文件由全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC336)提出并归口。
本文件起草单位：北京大学、中机生产力促进中心有限公司、中国电子技术标准化研究院、北京燕东 微电子科技有限公司、宁波芯健半导体有限公司、深圳市美思先端电子有限公司、上海临港新片区跨境 数据科技有限公司、广州奥松电子股份有限公司。
本文件主要起草人：张大成、杨芳、李根梓、顾枫、刘鹏、王旭峰、李凤阳、高程武、于志恒、陈艺、华璇卿、 刘若冰、张彦秀、罗书明、武斌、张启心、张宾。
GB/T 42896-2023 微机电系统（MEMS）技术 硅基MEMIS纳尺度结构冲击试验方法 1范围 本文件描述了硅基MEMS制造技术中所涉及的纳尺度膜结构沿厚度方向冲击试验的要求和试验 方法。
本文件适用于采用微电子工艺制造的纳尺度结构在一次冲击负荷作用下的耐冲击性能的测试。
2规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。
其中，注日期的引用文 件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适用于 本文件。
GB/T2900.28电工术语电动工具 GB/T26111微机电系统（MEMS)技术术语 GB/T36416.1试验机词汇第1部分：材料试验机 3术语和定义 GB/T2900.28、GB/T26111和GB/T36416.1界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1 硅加工工艺silicon process 硅微加工技术。
注：虽然硅工艺一般分为表面微加工和体硅微加工，但其中的许多技术是相同的。
[来源：GB/T26111-2010,3.5.2] 3.2 原位片上冲击试验机in situon-chipimpact tester 由测试结构和测试装置组成，并将二者集成在同一晶圆上采用同一工艺流程加工形成的用于评估 工艺相关微纳结构抗冲击性能的试验机。
3.3 测试结构testingstructure 为了测量材料性能或微结构的性能专门制作的微纳结构（例如，悬臂梁或者是固定梁)。
注：本文件中为双端固定梁。
[来源：GB/T26111-2010，3.7.19，有修改] 3.4 测试装置testingdevice 将力或位移传递到测试结构同时可以读出力或位移的微结构。
GB/T 42896-2023 3.5 挠度deflection 试样产生弯曲变形时，横截面中心在垂直于变形前轴线方向上的位移。
[来源：GB/T36416.1-2018，2.1.16] 3.6 冲击能量impact energy K 冲击类工具的冲击体在规定条件下，冲击达到工作位置时所具有的能量。
注：本文件中冲击体为冲击锤。
[来源：GB/T2900.28-2007.7.1，有修改] 4要求 4.1原位片上冲击试验机的设计要求 4.1.1结构说明 原位片上冲击试验机的示意图和三视图如图1和图2所示。
标引序号说明： 纳米测试结构； 5-挡板； 2-冲击锤； 6-释放结构； 3-储能梁； 7负载梁； 4-锚点； 8驱动加载点。
图1原位片上冲击试验机示意图...
