SJ/T 10551-2021 电子陶瓷用三氧化二铝中杂质的发射光谱分析方法.pdf

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ICS31.030 L90 SJ 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T10551—2021 代替SJ/T10551一1994 电子陶瓷用三氧化二铝中杂质的发射光谱 分析方法 Method of emission spectrochemical analysis of impurities in Al2O3 for use in electron ceramics 2021-03-05发布 2021-06-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布 e SJ/T10551-2021 前言 本标准按照GB/T1.1一2009制定的规则起草. 请注意本文件的某些内容可能涉及专利.本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任. 本标准代替SJ/T10551一1994《电子陶瓷用三氧化二铝中杂质的发射光谱分析方法》,本标准与 SJ/T10551一1994相比,主要有如下变动: —按GB/T1.1一2009规定的格式进行了修改. 将方法提要中的“利用内标法进行杂质含量的测定”修改为“利用标准曲线法进行杂质含量 的测定”.(见2,SJT10551一1994的2) —一删除了“米吐尔一一海德路显影液和定影液中的 米吐尔—海德路”.(见3.9,SJ/T 105511994的3 仪器设备中增加了烘箱.(见4.11) RMAT 分析步骤中增了预曝光时间.(见6.2) 本标准由全国半体设备与材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口 代替SJT10551一1994 SJ 本标准起草单位:中国电子技术标准化研究院. 本标准主要起草人:张旭、张理、裴会川、 本标准所代替标准的历次版本发布情况为: STANDARDS I ...

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