WJ 2694-2008 光学仪器浸渗处理铸件规范.pdf

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WJ 中华人民共和国兵器行业标准 FL2200 WJ2694-2008 光学仪器浸渗处理铸件规范 Specification for castings impregnation of optical instrument 2008一03一17发布 2008一10一01实施 国防科学技术工业委员会发布 WJ2694-2008 前言 本规范由中国兵器工业集团公司提出. 本规范由中国兵器工业标准化研究所归口. 本规范起草单位:国营第二五八厂. 本规范主要起草人:罗忠矿、陈菊意、陈军、任清、马彦恕、刘书强. WJ2694-2008 光学仪器浸渗处理铸件规范 1范围 本规范规定了光学仪器浸渗处理铸件(以下简称铸件)的要求、漫渗质量、质量保证规定、交货准 备等内容. 本规范适用于光电仪器铸件、粉末冶金件的浸渗与验收,其他产品亦可参照使用. 2规范性引用文件 下列文件中的条款通过本规范的引用而成为本规范的条款.凡是注日期的引用文件,其随后的 修改单(不包含勘误的内容)或修订版均不适用于本规范,然而,鼓励根据本规范达成协议的各方研究 是否可使用这些文件的最新版本.凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本规范. GB/T12609电沉积金属覆盖层和有关精饰计数抽样检查程序 3要求 3.1工艺质量控制 3.1.1工艺材料 3.1.1.1进行浸渗处理所用的浸渗剂应符合相应的技术要求,辅助材料应符合浸渗工艺要求. 3.1.1.2生产过程中应定期对浸渗剂的粘度、聚合反应时间等指标进行监测和调整,使之符合相关工 艺要求. 3.1.2铸件浸渗前处理 3.1.2.1铸件应无油污、灰尘、切削润滑液、锈迹、氧化皮、金属碎屑以及对浸渗剂产生污染的杂物. 3.1.2.2铸件应充分干燥.一般去油清洗后,在温度为60℃~80℃的烘箱(炉)中烘烤,应不少 于2h. 3.1.3浸渗工序 3.1.3.1浸渗工序一般应在热处理、焊接及机械加工工序全部完成后进行.薄壁、复杂的本(壳) 体、镜身及气密性要求较高的铸件,可对其进行一次预浸渗处理. 3.1.3.2铸件浸渗处理后,应在不损害铸件强度或使用性能的部位标记醒目的“MP”字样. 3.2外观质量 3.2.1浸渗处理后的铸件应充分固化,表面应无油、无毛刺、无磕伤,在孔、盲孔、螺纹孔及细小通 路等部位不应有浸渗剂的附着及堵塞现象. 3.2.2真空整体浸渗处理后还需要进行阳极氧化、化学处理、电镀等工序的铸件除满足3.2.1的规定外, 主要表面应无有机浸渗剂的附着及流痕、流挂等影响表面处理质量的现象. 3.2.3经压力(常压或加压)整体浸渗、局部浸渗和采用无机浸渗剂后的铸件,其浸渗部位的微孔、 疏松、缩孔等缺陷处允许有浸渗剂的刷痕、流痕及表面轻微凹凸不均现象. 3.3耐压性能 浸渗处理后的铸件其耐压性能应满足技术要求的规定.冲入压缩空气保压后的铸件不应有气泡、变 形或损坏现象;冲入压力水保压后的铸件不应有“漏水”、“冒汗”、变形和损坏现象. ...

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