YS/T 38.3-2023 高纯镓化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法.pdf

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ICS 77. 040 YS CCS H 17 中华人民共和国有色金属行业标准 YS/T38.3-2023 高纯化学分析方法 第3部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法 Methodsfor chemical analysis of high purity gallium-Part 3:Determination of trace impurity elements contents-Glow discharge mass spectrometry 2023-04-21发布 2023-11-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布
YS/T38.3-2023 前言 本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定 起草.

本文件是YS/T38《高纯化学分析方法》的第3部分.

YS/T38已经发布了以下部分: 一第1部分:硅量的测定钼蓝分光光度法; 一第2部分:镁、钛、铬、锰、镍、钻、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定电感耦合等离子体质谱法; 一第3部分:痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法.

请注意本文件的某些内容可能涉及专利.

本文件的发布机构不承担识别专利的责任.

本文件由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)、全国半导体设备和材料标准化技术委员 会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)提出并归口.

本文件起草单位:国合通用测试评价认证股份公司、国标(北京)检验认证有限公司、广东先导稀材股 份有限公司、南京金美业有限公司、厦门市科力电子有限公司、北京清质分析技术有限公司、贵研检测 科技(云南)有限公司、合肥中晶新材料有限公司.

本文件主要起草人:刘红、刘鹏宇、胡芳菲、杨复光、赵景鑫、孙道儒、朱赞芳、汪洋、李俊需、李铭、 马媛、程平.

YS/T38.3-2023 引言 高纯是三基色激光显示材料铟磷、钢氮的原材料,也是制造第二代半导体砷化、第三代宽禁 带半导体氮化、磷化、锑化的关键基础材料,主要用于LED、红外器件、电子工业和通信领域.

YS/T 38《高纯化学分析方法》是高纯化学分析方法的系列标准,分为三个部分: 一第1部分:硅量的测定钼蓝分光光度法; 第2部分:镁、钛、铬、锰、镍、钻、铜、锌、镉、锡、铅、铋量的测定电感耦合等离子体质谱法; -第3部分:痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法.

高纯中痕量杂质含量是决定高纯材料及其器件性能的重要因素,本文件的制定,不仅可以规范 行业内部测试方法,对于提高高纯生产技术能力和工艺控制水平,满足国际贸易交付等都具有重要 意义.

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