ICS 71. 060.30 CCS G 11 HG 中华人民共和国化工行业标准 HG/T 4509-2023 代替HG/T4509-2013 工业高纯氢氟酸 High purity hydrofluoric acid for industrial use 2023-12-20发布 2024-07-01实施 中华人民共和国工业和信息化部发布
HG/T4509-2023 前言 本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的 规定起草.
本文件代替HG/T4509-2013《工业高纯氢氟酸），与HG/T4509-2013相比，除结构调整和 编辑性改动外，主要技术变化如下： a）增加了UP-SSS级产品规格及要求（见第5章、6.2）； b）更改了UP级、UP-S级和UP-SS级氟硅酸含量指标要求（见6.2，2013年版的5.2）； c）增加了银、金、等15个阳离子指标要求（见6.2）； d）增加了自动电位滴定法测定总酸度（见7.3.2）； e）更改了氟硅酸含量测定方法中工作曲线的制备步骤（见7.4.4.1，2013年版的6.5.4.1）； f）更改了氯化物等阴离子含量测定方法中工作曲线的制备步骤（见7.5.4.1，2013年版的 6. 6. 4. 1) ; g）更改了阳离子含量测定方法中工作曲线溶液的制备步骤（见7.6.4.2，2013年版的6.7.4.2）； h）更改了包装容器净含量要求，包装容器增加了槽罐（见10.1，2013年版的9.1）； i）删除了安全条款（见2013年版的第10章）； j）在附录中增加了ICP-MS法测定氟硅酸含量（见附录A）.
请注意本文件的某些内容可能涉及专利.
本文件的发布机构不承担识别专利的责任.
本文件由中国石油和化学工业联合会提出.
本文件由全国化学标准化技术委员会无机化工分技术委员会（SAC/TC63/SC1）归口.
本文件起草单位：中巨芯科技股份有限公司、多氟多新材料股份有限公司、索尔维蓝天（衢州） 化学品有限公司、贵州川恒化工股份有限公司、贵州瓮福蓝天氟化工股份有限公司、湖北兴力电子材 料有限公司、浙江凯圣氟化学有限公司、福建水晶科技股份有限公司、云南氟磷电子科技有限公司、 宁夏盈氟金和科技有限公司、瑞士万通中国有限公司、上海哈勃化学技术有限公司、贵州省产品质量 检验检测院、中海油天津化工研究设计院有限公司.
本文件主要起草人：陈刚、杨华春、王平、吴晓、陈维、彭飞、贺辉龙、刘春花、谷正彦、魏 学、刘斌华、孙宏华、钟宏波、郭风鑫、赵晓亚、叶文豪、郑恒、徐绍霞、吴兴前、林顺泰、程文 海、刘世鹏、王莉莉、赵美敬、周君、李霞、 本文件及其所代替文件的历次版本发布情况为： -2013年首次发布为HG/T4509-2013； 本次为第一次修订.
HG/T 4509-2023 工业高纯氢氟酸 警告：按GB12268-2012第6章的规定，本产品属于第8类腐蚀性物质，次要危险性为第6类 6.1项毒性物质.
操作时应小心谨慎！
如激到皮肤或眼晴上应立即用水冲洗，严重者应立即就医.
使 用本文件的人员应有正规实验室工作的实践经验.
本文件并未指出可能的安全问题，使用者有责 任采取适当的安全和健康措施，并保证符合国家有关法规规定的条件.
1范围 本文件规定了工业高纯氢氟酸的分级、要求、试验方法、检验规则、标志、标签和随行文件、包 装、运输、贮存.
本文件适用于工业高纯氢氟酸.
注：该产品主要应用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗、蚀刻，以及 作为生产其他高纯氟化物的原料等.
2规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款.
其中，注日期的引用文 件，仅该日期对应的版本适用于本文件：不注日期的引用文件，其最新版本（包括的修改单）适 用于本文件.
GB190危险货物包装标志 GB/T191-2008包装储运图示标志 GB/T6678化工产品采样总则 GB/T6680液体化工产品采样通则 GB/T6682一2008分析实验室用水规格和试验方法 GB/T8170数值修约规则与极限数值的表示和判定 GB12268-2012危险货物品名表 HG/T3696.1无机化工产品化学分析用标准溶液、制剂及制品的制备第1部分：标准滴 定溶液的制备 HG/T3696.2无机化工产品化学分析用标准溶液、制剂及制品的制备第2部分：杂质标 准溶液的制备 HG/T3696.3无机化工产品化学分析用标准溶液、制剂及制品的制备第3部分：制剂及 制品的制备 3术语和定义 本文件没有需要界定的术语和定义.
HG/T 4509-2023 4分子式和相对分子质量 分子式：HF 相对分子质量：20.01（按2022年国际相对原子质量） 5分级 工业高纯氢氟酸按用途分为5个等级： a）EL级：主要用于太阳能光伏电池及液晶显示器件的制造，以及作为生产其他高纯氟化物的 原料； b）UP级：主要用于线宽为0.8μm~1.2μm集成电路的清洗与蚀刻； c）UP-S级：主要用于线宽为0.2μm~0.8μm集成电路的清洗与蚀刻； d）UP-SS级：主要用于线宽为0.09μm~0.2pm集成电路的清洗与蚀刻； e)UP-SSS级：主要用于线宽小于0.09pm集成电路的清洗与蚀刻.
6要求 6.1外观：无色透明液体.
6.2工业高纯氢氟酸按本文件规定的试验方法检测应符合表1的要求.
表1 项 目 指 标 EL级 UP级 UP-S级 UP-SS 级 UP-SSS 级 总酸度（以HF计），w/% 49.0±0.5或50.0±0.5 49.0±0.2或50.0±0.2 氟硅酸（HSiF）/（mg/kg） 50 30 20 5 0.5 氧化物（以Cl计）/（mg/kg） 5 5 0. 2 0.05 0.01 硝酸盐（以NO计）/（mg/kg） 3 3 0.1 0.05 0.01 磷酸盐（以PO计）/（mg/kg） 八 1 1 0.1 0.05 0.01 硫酸盐（以 SO计）/（mg/kg） 5 5 0.2 0.05 0.01 银（Ag）/(μg/kg) 10 1 0.1 0.01 铝（A1）/(μg/kg） 100 10 1 0.1 0.01 砷（As）/(μg/kg） 300 10 1 0.1 0.01 金（Au）/（μg/kg） 10 1 0.1 0.01 硼（B）/(g/kg） 100 10 1 0.1 0.01 锲（Ba）/（μg/kg） 100 10 1 0.1 0.01 镀（Be）/(μg/kg） 1 0. 1 0.01 （Bi）/（μg/kg） 10 1 0.1 0.01 钙（Cn）/(μg/kg） 100 10 1 0.1 0.01 铺（Cd）/(μg/kg） 50 10 1 0.1 0.01 钻（Co）/(g/kg） - 1 0.1 0.01 铬（Cr）/（μg/kg） 20 10 1 0.1 0.01 铜（Cu）/(μg/kg） 20 10 1 0.1 0.01 2
HG/T 4509-2023 表1（续） 项 日 指 标 EL级 UP级 UP-S级 UP-SS 级 UP-SSS 铁（Fe)/(pg/kg） 100 10 1 0.1 0.01 银（Ga)/(μg/kg） - 1 0.1 0.01 储（Ge)/(μg/kg) - 10 1 0.1 0.01 钾（K）/(yug/kg） 100 10 1 0.1 0.01 锂(Li)/(μg/kg) 20 10 1 0.1 0.01 镁（Mg)/(μg/kg) 100 10 1 °0 0.01 锰（Mn）/(μg/kg) 50 10 1 0. 1 0.01 铝（Mo)/(μg/kg) 10 1 0.1 0.01 钠（Na） /(pg/kg) 100 10 1 0.1 0.01 锐（Nb）/(μg/kg) 10 1 0.1 0.01 镍（N） /(pg/kg) 50 10 1 0.1 0.01 铅（Pb)/(μg/kg) 50 10 1 0.1 0.01 （Pd) /(μg/kg) 10 1 0.1 0.01 错（Sb)/(μg/kg) 50 10 1 0.1 0.01 锡（Sn）/(μg/kg) 20 10 1 0.1 0.01 银(Sr) /(μg/kg) 10 1 0. 1 0.01 银（Ta） /(yμg/kg) 10 1 0.1 0.01 钛（Ti）/(μg/kg) 100 10 1 0.1 0.01 铠（T1)）/(μg/kg) - 10 1 0.1 0.01 钒（V)/（pg/kg) - 1 0.1 0.01 锌（Zn）/(μg/kg) 50 10 1 0.1 0.01 错（Z：）/(μg/kg） - 10 1 0.1 0.01 (≥1. 0μm) /(个/mL) 25 - - 二 (≥0. 5μm）/(个/mL) 25 5 颗粒 (≥0. 2μm）/(个/mL) 20 (≥0. 1μm）/(个/mL) - - - 20 (≥0. 04 μm）/(个/mL) 50 7试验方法 7.1一般规定 本文件所用试剂或材料和水，在没有注明其他要求时，均指分析纯试剂和GB/T6682-2008中 表1规定的三级水.
试验中所用标准滴定溶液、杂质标准溶液、制剂及制品，在没有注明其他要求时，均按 HG/T 3696.1、HG/T3696.2、HG/T 3696.3的规定制备.
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